本网讯 近日，爱思唯尔旗下TOP期刊《Journal of Alloys and Compounds》（SCI JCR一区 IF 5.316）刊载了我院刘洋博士团队在透明导电薄膜领域的最新研究成果。文章题目为“F, Mg and Ga co-doped ZnO transparent conductive thin films by dual-target magnetron sputtering: Fabrication, structure, and characteristic”，第一作者为刘洋博士，通讯作者为余华清教授。

透明导电氧化物In2O3: Sn (ITO) 薄膜作为电极材料广泛应用于太阳能电池、平板显示、触摸屏等现代科技产品中。近年来，随着In资源的日益枯竭，寻求可替代ITO的薄膜材料已迫在眉睫。刘洋博士团队在玻璃基底上应用直流、射频双靶磁控溅射技术，制备出F、Mg、Ga三元阴阳离子共掺杂ZnO透明导电薄膜，薄膜透明导电品质因子达到5.66×10-2 Ω-1，可见光透过率高达95.23%，其光电性能相比单离子掺杂ZnO薄膜有了明显提高，有望应用于各类光电器件中。

据悉，刘洋博士自2019年9月从华中科技大学引进到我院以来，以湖北工程学院为第一作者单位发表SCI收录论文6篇，其中，JCR一区3篇。

据了解，近年来，我院以省级重点学科——光学工程建设为龙头，以团队建设为抓手，积极为老师们搭建科研平台，鼓励青年教师勇做创新人才培养的“栽树人”和源头创新的“挖井人”，把社会需求和教学科研工作有机结合起来，为促进学校高质量发展和社会经济发展增砖添瓦。